產(chǎn)品型號(hào)：GMD2000

廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家

所在地：上海

更新時(shí)間：2024-06-12

產(chǎn)品簡(jiǎn)介：

納米材料陶瓷研磨分散機(jī)所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機(jī)座采用304不銹鋼；特殊要求如：硬度較大物料，對(duì)鐵雜質(zhì)要求嚴(yán)苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運(yùn)轉(zhuǎn)的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷。

產(chǎn)品關(guān)鍵詞：納米材料陶瓷研磨分散機(jī)，晶須增韌氧化鋁陶瓷研磨分散機(jī)，纖維增韌氧化鋁陶瓷研磨分散機(jī)，碳納米管增韌氧化鋁陶瓷研磨分散機(jī)，相變?cè)鲰g氧化鋁陶瓷研磨分散機(jī)，顆粒彌散增韌氧化鋁陶瓷研磨分散機(jī)

上海思峻機(jī)械研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu)，精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運(yùn)行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國(guó)博格曼雙端面機(jī)械密封，并通冷媒對(duì)密封部分進(jìn)行冷卻，把泄露概率降到低，保證機(jī)器連續(xù)24小時(shí)不停機(jī)運(yùn)行。采用優(yōu)化設(shè)計(jì)理念，將的技術(shù)與創(chuàng)新的思維有效融合，并體現(xiàn)在具體的設(shè)備結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)中，為設(shè)備穩(wěn)定運(yùn)行提供了保證.

氧化鋁陶瓷是氧化物中zui穩(wěn)定的物質(zhì) , 具有機(jī)械強(qiáng)度高 、高的電絕緣性與低的介電損耗等特點(diǎn), 在航天、航空、紡織、建筑等方面 ,具有廣闊的應(yīng)用前景。但是 ,由于它高脆性和均勻性差等致命弱點(diǎn) ,影響了陶瓷零部件的使用安全性 ,因此,提高氧化鋁陶瓷的韌性是亟待解決的重要問(wèn)題。

那么氧化陶瓷為什么如此脆呢？

金屬材料很容易產(chǎn)生塑性變形，原因是金屬鍵沒(méi)有方向性。而在陶瓷材料中，原子間的結(jié)合鍵為共價(jià)鍵和離子鍵，共價(jià)鍵有明顯的方向性和飽和性，而離子鍵的同號(hào)離子接近時(shí)斥力很大，所以主要由離子晶體和共價(jià)晶體組成的陶瓷，滑移系很少，一般在產(chǎn)生滑移以前就發(fā)生斷裂。

為了減少氧化鋁基陶瓷材料的脆性 ,除了采用的制備工藝外 ,還需要在氧化鋁陶瓷的增韌技術(shù)方面開(kāi)展廣泛及深入的研究。下面 從納米材料方面介紹增韌技術(shù)要點(diǎn)：納米材料與納米技術(shù)方面的研究有可能使陶瓷增韌技術(shù)獲得革命性突破。一方面 ,納米陶瓷由于晶粒的細(xì)化 , 晶界數(shù)量會(huì)大大增加 ,同時(shí)納米陶瓷的氣孔和缺陷尺寸減小到一定尺寸就不會(huì)影響到材料的宏觀強(qiáng)度 ,結(jié)果可使材料的強(qiáng)度、韌性大大增加 。另一方面 ,在陶瓷基體中引入納米分散相并進(jìn)行復(fù)合 , 不僅可大幅度提高其強(qiáng)度和韌性 ,明顯改善其耐高溫性能。

因此 ,氧化鋁陶瓷納米化及納米復(fù)合目前已成為改善其斷裂韌性的zui重要途徑之一。

納米復(fù)相陶瓷的強(qiáng)韌化機(jī)理 , 主要通過(guò)以下幾個(gè)效應(yīng)體現(xiàn):

1、散相的引入有效地抑制了基質(zhì)晶粒的生長(zhǎng)和減輕了晶粒的異常長(zhǎng)大 ;

2、彌散相或彌散相周圍存在局部應(yīng)力 ,使晶粒細(xì)化而減弱主晶界的作用 ;

3、納米粒子高溫牽制位錯(cuò)運(yùn)動(dòng) , 使高溫力學(xué)性能如硬度 、強(qiáng)度及抗蠕變性得到改善。

上海思峻的研磨分散機(jī)特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu)，精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運(yùn)行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國(guó)博格曼雙端面機(jī)械密封，并通冷媒對(duì)密封部分進(jìn)行冷卻，把泄露概率降到低，保證機(jī)器連續(xù)24小時(shí)不停機(jī)運(yùn)行。簡(jiǎn)單的說(shuō)就是將SGN/思峻膠體磨進(jìn)行進(jìn)一步的改良，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級(jí)模塊，加入了一級(jí)分散盤(pán)。可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇） SGN研磨分散機(jī)可以高速研磨，分散，乳化，均質(zhì)等功能，設(shè)備轉(zhuǎn)速可達(dá)14000rpm，是目前國(guó)產(chǎn)設(shè)備轉(zhuǎn)速的4-5倍。

GMD2000系列研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu)：研磨式分散機(jī)是由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

*級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)?在對(duì)輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個(gè)很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)工作頭來(lái)滿 足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對(duì)制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

GMD2000納米材料陶瓷研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu),有一定輸送能力，可以處理高固含量有一定粘稠度物料，GM2000設(shè)計(jì)了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子，進(jìn)行物料的推動(dòng)輸送；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機(jī)座采用304不銹鋼；特殊要求如：硬度較大物料，對(duì)鐵雜質(zhì)要求嚴(yán)苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運(yùn)轉(zhuǎn)的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷；GMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計(jì)，可通冷卻或者升溫介質(zhì)。

的特點(diǎn)：

1、 線速度很高，剪切間隙非常小，當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨

2、 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。

3、 定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

4、 在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

5、 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

（價(jià)格電議：葛   公司有樣機(jī)可供客戶實(shí)驗(yàn)！）

設(shè)備其它參數(shù):

設(shè)備等級(jí)：化工級(jí)、衛(wèi)生I級(jí)、衛(wèi)生II級(jí)、無(wú)菌級(jí)
電機(jī)形式：普通馬達(dá)、變頻調(diào)速馬達(dá)、防爆馬達(dá)、變頻防爆馬達(dá)、
電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機(jī)選配件： PTC 熱保護(hù)、降噪型
研磨分散機(jī)材質(zhì)：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機(jī)選配：儲(chǔ)液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動(dòng)小車
研磨分散機(jī)表面處理：拋光、耐磨處理
進(jìn)出口聯(lián)結(jié)形式：法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機(jī)選配容器：本設(shè)備適合于各種不同大小的容器

從設(shè)備角度來(lái)分析，影響研磨分散機(jī)效果因素有以下幾點(diǎn)：

1.研磨頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次式要好）

2.研磨頭的剪切速率，（越大效果越好）

3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒、中齒、細(xì)齒、超細(xì)齒、越細(xì)齒效果越好）

4.物料在分散墻體的停留時(shí)間、研磨分散時(shí)間（可以看作同等電機(jī)，流量越小效果越好）

5.循環(huán)次數(shù)（越多效果越好，到設(shè)備的期限就不能再好了。）

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線速度的計(jì)算：

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知，剪切速率取決于以下因素：

轉(zhuǎn)子的線速率

在這種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 
SGN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個(gè)zui重要因素，超高速分散均質(zhì)分散機(jī)的高轉(zhuǎn)速和剪切率對(duì)于獲得超細(xì)微懸浮液是zui重要的。